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Campo DC Valor Lengua/Idioma
dc.provenanceCONICET-
dc.creatorRuano Sandoval, Gonzalo Javier-
dc.creatorMoreno López, Juan Carlos-
dc.creatorPasseggi, Mario Cesar Guillermo-
dc.creatorVidal, Ricardo Alberto-
dc.creatorFerron, Julio-
dc.creatorNiño, M. A.-
dc.creatorMiranda, R.-
dc.creatorde Miguel, J. J.-
dc.date2016-12-05T15:10:52Z-
dc.date2016-12-05T15:10:52Z-
dc.date2013-09-
dc.date2016-12-02T16:00:23Z-
dc.date.accessioned2019-04-29T15:36:08Z-
dc.date.available2019-04-29T15:36:08Z-
dc.date.issued2013-09-
dc.identifierRuano Sandoval, Gonzalo Javier; Moreno López, Juan Carlos; Passeggi, Mario Cesar Guillermo; Vidal, Ricardo Alberto; Ferron, Julio; et al.; Morfología y estabilidad térmica de películas delgadas de fluoruro de aluminio sobre Cu(100); Asociación Física Argentina; Anales Afa; 23; 2; 9-2013; 108-115-
dc.identifier0327-358X-
dc.identifierhttp://hdl.handle.net/11336/8765-
dc.identifier.urihttp://rodna.bn.gov.ar:8080/jspui/handle/bnmm/297492-
dc.descriptionSe estudió el crecimiento de películas epitaxiales ultra-delgadas de fluoruro de aluminio en Cu (100) mediante una combinación de técnicas experimentales de física de superficies. La deposición a temperatura ambiente resulta en la decoración de escalones seguida por la formación de islas dendríticas bidimensionales que coalescen para formar películas porosas. Las películas ultra-delgadas (de hasta dos monocapas de espesor) resultan morfológicamente inestables al calentar; parte de la película deja de mojar la superficie del sustrato a alrededor de 430 K con la formación de islas tridimensionales y dejando expuesta un área extensa de la superficie de Cu. En cambio, películas de varios nanómetros de espesor son estables hasta temperaturas cercanas a los 730 K cuando ocurre la desorción molecular. El efecto de la irradiación electrónica también ha sido caracterizado mediante diferentes técnicas espectroscópicas; encontrando que incluso dosis de irradiación reducidas de electrones pueden producir una descomposición significativa del fluoruro de aluminio, resultando en la liberación de moléculas de flúor y la formación de aluminio metálico. Estas características hacen del fluoruro de aluminio un material interesante para aplicaciones en espintrónica.-
dc.descriptionFil: Ruano Sandoval, Gonzalo Javier. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (i); Argentina-
dc.descriptionFil: Moreno López, Juan Carlos. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (i); Argentina-
dc.descriptionFil: Passeggi, Mario Cesar Guillermo. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (i); Argentina-
dc.descriptionFil: Vidal, Ricardo Alberto. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (i); Argentina-
dc.descriptionFil: Ferron, Julio. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (i); Argentina-
dc.descriptionFil: Niño, M. A.. Universidad Autónoma de Madrid; España-
dc.descriptionFil: Miranda, R.. Universidad Autónoma de Madrid; España-
dc.descriptionFil: de Miguel, J. J.. Universidad Autónoma de Madrid; España-
dc.formatapplication/pdf-
dc.formatapplication/pdf-
dc.languagespa-
dc.publisherAsociación Física Argentina-
dc.relationinfo:eu-repo/semantics/altIdentifier/url/http://anales.fisica.org.ar/journal/index.php/analesafa/article/view/1057-
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess-
dc.rightshttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/-
dc.sourcereponame:CONICET Digital (CONICET)-
dc.sourceinstname:Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas-
dc.sourceinstacron:CONICET-
dc.source.urihttp://hdl.handle.net/11336/8765-
dc.subjectMICROSCOPIA TÚNEL DE BARRIDO-
dc.subjectFLUORURO DE ALUMINIO-
dc.subjectPELÍCULAS ULTRA-DELGADAS-
dc.subjectESTABILIDAD TÉRMICA-
dc.subjectFísica de los Materiales Condensados-
dc.subjectCiencias Físicas-
dc.subjectCIENCIAS NATURALES Y EXACTAS-
dc.titleMorfología y estabilidad térmica de películas delgadas de fluoruro de aluminio sobre Cu(100)-
dc.titleMorphology and thermal stability of alf3 on Cu(100) thin films-
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/article-
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersion-
dc.typeinfo:ar-repo/semantics/articulo-
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