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Campo DC Valor Lengua/Idioma
dc.creatorDussan, A.-
dc.creatorKoropecki, Roberto Roman-
dc.date2017-08-17T21:34:35Z-
dc.date2017-08-17T21:34:35Z-
dc.date2007-12-
dc.date2017-08-04T15:49:42Z-
dc.date.accessioned2019-04-29T15:55:45Z-
dc.date.available2019-04-29T15:55:45Z-
dc.identifierDussan, A.; Koropecki, Roberto Roman; Propiedades estructurales y morfológicas de películas delgadas de uc-Si:H; Sociedad Colombiana de Física; Revista Colombiana de Física; 39; 1; 12-2007; 281-284-
dc.identifier0120-2650-
dc.identifierhttp://hdl.handle.net/11336/22655-
dc.identifierCONICET Digital-
dc.identifierCONICET-
dc.identifier.urihttp://rodna.bn.gov.ar:8080/jspui/handle/bnmm/305559-
dc.descriptionUna serie de películas delgadas de silicio microcristalino dopadas con Boro (µc-Si:H (B)) fueron depositadas por el método de deposición química en fase de vapor asistida por plasma (PECVD). Las muestras fueron dopas con Boro. La microestructura y morfología de las muestras fue analizada por microscopía de fuerza atómica (AFM), difracción de rayos X y espectroscopía Raman. Se observó un incremento tanto en la fracción de volumen cristalina como en el tamaño de grano a medida que se incrementó la concentración de Boro en las muestras. Las películas de silicio microcristalino dopadas con Boro presentaron una orientación cristalográfica preferencial en el plano (220).-
dc.descriptionA series of films boron doped microcrystalline silicon (µc-Si:H (B)) was deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD). The samples were Boron doped. The microstructure and morphology of samples were analyzed by atomic force microscopy (AFM), X-ray diffraction (XRD), and Raman spectroscopy. Trends of increasing crystalline volume fraction and grain size were observed with increasing boron concentration in the samples. The doped microcrystalline silicon films showed a preferential crystallographic orientation in the plane (220).-
dc.descriptionFil: Dussan, A.. Universidad Nacional de Colombia; Colombia-
dc.descriptionFil: Koropecki, Roberto Roman. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Conicet - Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química. Universidad Nacional del Litoral. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química; Argentina-
dc.formatapplication/pdf-
dc.formatapplication/pdf-
dc.languagespa-
dc.publisherSociedad Colombiana de Física-
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/restrictedAccess-
dc.rightshttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/-
dc.sourcereponame:CONICET Digital (CONICET)-
dc.sourceinstname:Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas-
dc.sourceinstacron:CONICET-
dc.subjectSILICIO MICROCRISTALINO-
dc.subjectPELÍCULA DELGADA-
dc.subjectOtras Ciencias Físicas-
dc.subjectCiencias Físicas-
dc.subjectCIENCIAS NATURALES Y EXACTAS-
dc.titlePropiedades estructurales y morfológicas de películas delgadas de uc-Si:H-
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/article-
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersion-
dc.typeinfo:ar-repo/semantics/articulo-
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