Registro completo de metadatos
| Campo DC | Valor | Lengua/Idioma |
|---|---|---|
| dc.provenance | Facultad de Ciencias Exactas y Naturales de la UBA | - |
| dc.contributor | Mahmud, Z. | - |
| dc.contributor | Gordillo, G. | - |
| dc.contributor | Ventura D'Alkaine, C. | - |
| dc.creator | Mahmud, Z. | - |
| dc.creator | Gordillo, G. | - |
| dc.creator | Ventura D'Alkaine, C. | - |
| dc.date.accessioned | 2018-05-04T22:24:56Z | - |
| dc.date.accessioned | 2018-05-28T16:26:24Z | - |
| dc.date.available | 2018-05-04T22:24:56Z | - |
| dc.date.available | 2018-05-28T16:26:24Z | - |
| dc.date.issued | 2016-10 | - |
| dc.identifier.uri | http://10.0.0.11:8080/jspui/handle/bnmm/72498 | - |
| dc.description | Se ha encontrado que en la literatura se le da poca importancia al Estado Inicial antes del inicio de la electrodeposición. Es decir, al estado del electrodo por el pulido y el acondicionamiento previo, de modo de iniciar la deposición siempre en iguales condiciones. En el caso de este aditivo, la l-cisteína, se han realizado cronoamperometrías en las que la j estacionaria, es siempre negativa antes del inicio de la deposición mientras que j estacionaria es siempre positiva para la tiourea. En este trabajo se utiliza la voltametría cíclica para el sistema de electrodeposición de cinc sobre acero en presencia de l-cisteína. Esta técnica permite diferenciar los procesos a diferentes potenciales. Aunque tiene limitaciones en cuanto a que la disolución en la inversión de potencial, se hace en la misma solución de electrodeposición. En la voltametría de disolución lenta es mayor el área de disolución que para el caso de la voltametría cíclica. Por lo tanto, es mayor la eficiencia de la reacción, porque queda determinado con más exactitud cuánto se deposita, en relación a lo que realmente debería haberse depositado. Es importante remarcar que la disolución voltamétrica es lenta y se hace en solución de NaOH 1 N y no se hace en la solución de deposición (ZnCl 2 +NH 4 Cl con l-cisteína). | - |
| dc.description | Fil: Mahmud, Z. Instituto Nacional de Tecnología Industrial (INTI). Procesos Superficiales | - |
| dc.description | Fil: Gordillo, G. Universidad de Buenos Aires (UBA). Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física | - |
| dc.description | Fil: Ventura D'Alkaine, C. Universidade Federal de São Carlos (UFSCar) | - |
| dc.format | application/pdf | - |
| dc.language | spa | - |
| dc.publisher | Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Universidad de Buenos Aires | - |
| dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | - |
| dc.rights | http://creativecommons.org/licenses/by/2.5/ar | - |
| dc.source.uri | http://digital.bl.fcen.uba.ar/gsdl-282/cgi-bin/library.cgi?a=d&c=technicalreport&d=technicalreport_00020 | - |
| dc.subject | Electrodeposición-cincado | - |
| dc.subject | aditivos | - |
| dc.subject | l cisteína | - |
| dc.subject | adsorción | - |
| dc.title | Efecto del aditivo l-cisteína en la lectrodeposición | - |
| dc.type | info:eu-repo/semantics/report | - |
| dc.type | info:ar-repo/semantics/informe técnico | - |
| dc.type | info:eu-repo/semantics/submittedVersion | - |
| Aparece en las colecciones: | FCEN - Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. UBA | |
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